產(chǎn)品目錄
-
工業(yè)器材
- 日本ENDO遠(yuǎn)藤
- 日本azbi山武
- 日本KOSMEK考世美
- 日本BL必愛路
- 日本SGK昭和技研
- 日本JST日壓
- 日本Nidec尼得科
- 日本SANKO三高
- NS日本科學(xué)
- 日本TOKI東機(jī)產(chǎn)業(yè)
- 日本ITOH伊藤制作所
- 日本DRY-CABI東利...
- 日本REVOX來寶克斯
- 臺(tái)灣CHELIC氣立可
- 日本NPM日脈
- SEN日森
- 日本HORIBA堀場
- 日本NITTO-KOHK
- 日本NBK鍋屋
- 日本NMR
- 日本EYE巖崎
- 日本MUSASHI武藏
- 日本DENSO
- 日本SURE石崎電機(jī)制作...
- 日本KURITA栗田
-
日本SAKAGUCHI坂...
- 離心攪拌器
- 遠(yuǎn)紅外線加熱管
- 筒式加熱器
- 泊片加熱器
- 橡膠加專線
- 絕緣臺(tái)礙子
- 橡膠加熱器
- 熱風(fēng)機(jī)
- 熱風(fēng)槍
- 噴嘴式加熱器
- 加熱板
- 硅膠線加熱器
- 加熱管道
- 包覆式加熱器
- 遠(yuǎn)紅外陶瓷加熱板
- 石英加熱管
- 水加熱器
- 氮化鋁加熱器
- 法蘭加熱器
- 氮化硅加熱器
- 微型陶瓷加熱片
- 加熱圈
- 柔性加熱器
- 空間加熱器
- 電熱爐管道
- 絕緣端子
- 耐熱膠帶
- 導(dǎo)熱泥
- 耐高溫手套
- 高溫發(fā)生器
- 高溫加熱板
- 帕爾貼
- 單端加熱棒
- 包覆式加專線
- 硅海綿
- 耐熱電熱
- 照射式電暖爐
- 高溫模加熱器
- 瓷器加熱器
- 連接器
- 溫度傳感器/熱電偶
- 自動(dòng)溫度調(diào)節(jié)器
- 溫度控制器
- 恒溫器
- 日本HAKKO八光
- 日本IZUMI 泉精器製...
- 日本IMAO今尾
- 日本JUST
- 日本SUNX神視
- 日本METROL美德龍
- 日本Meiki
- 日本YAMARI山里
- 日本OKAZAKI 岡崎
- 日本TANIGUCHI谷...
- 日本NPM
- 日本EYELA東京理化
- DNK大日本科研
- 日本YOKOHAMA橫濱
- 日本EINS
- 日本ACCRETECH東...
- 環(huán)境設(shè)備
- 測量儀器
- SMT設(shè)備
- 物料運(yùn)輸
- 切削工具
- 化學(xué)用品
- 作業(yè)工具
產(chǎn)品詳情
簡單介紹：
MX-1201，無掩膜曝光裝置，小批量生產(chǎn)直描曝光，DNK大日本科研DSLY0505
MX-1201，無掩膜曝光裝置，小批量生產(chǎn)直描曝光，DNK大日本科研DSLY0505
MX-1201，無掩膜曝光裝置，小批量生產(chǎn)直描曝光，DNK大日本科研DSLY0505
詳情介紹：
MX-1201，無掩膜曝光裝置，小批量生產(chǎn)直描曝光，DNK大日本科研DSLY0505
MX-1201，無掩膜曝光裝置，小批量生產(chǎn)直描曝光，DNK大日本科研DSLY0505
MX-1201，無掩膜曝光裝置，小批量生產(chǎn)直描曝光，DNK大日本科研DSLY0505
MX-1201，無掩膜曝光裝置，小批量生產(chǎn)直描曝光，DNK大日本科研DSLY0505
MX-1201，無掩膜曝光裝置，小批量生產(chǎn)直描曝光，DNK大日本科研DSLY0505
MX-1201，無掩膜曝光裝置，小批量生產(chǎn)直描曝光，DNK大日本科研DSLY0505
MX-1201，無掩膜曝光裝置，小批量生產(chǎn)直描曝光，DNK大日本科研DSLY0505
MX-1201，無掩膜曝光裝置，小批量生產(chǎn)直描曝光，DNK大日本科研DSLY0505
MX-1201，無掩膜曝光裝置，小批量生產(chǎn)直描曝光，DNK大日本科研DSLY0505
MX-1201，無掩膜曝光裝置，小批量生產(chǎn)直描曝光，DNK大日本科研DSLY0505
MX-1201，無掩膜曝光裝置，小批量生產(chǎn)直描曝光，DNK大日本科研DSLY0505
利用獨(dú)自的高速描畫「Point Of Array方式」技術(shù)直接描畫圖形的裝置。
特長：
能夠用于研究開發(fā)、試作、小批量生產(chǎn)等的直描曝光。
能夠?qū)?yīng)以**PCB、高密度Packaging、平板顯示(FPD)等為首的MEMS等微細(xì)加工領(lǐng)域。
由于在光刻工藝中不需要掩膜，因而可以*大限度地降低開發(fā)成本和縮短市場供應(yīng)時(shí)間。
此外,還可以根據(jù)客戶需求,提供相應(yīng)的裝置構(gòu)造。
| MX-1201 | MX-1201 | MX-1201E | MX-1204 | MX-1702E | |
| *小線幅 (※1) | 5μm | 5μm | 3μm | 1μm | 10μm |
| 數(shù)據(jù)分辨率 | 0.5μm | 0.5μm | 0.25μm | 0.122μm | 1.0μm |
| *大基板尺寸 | 200 x 200mm | 200 x 200mm | 200 x 200mm | 150 x 150mm | 550 x 650mm |
| 有效曝光范圍 | 200 x 200mm | 200 x 200mm | 200 x 200mm | 150 x 150mm | 550 x 650mm |
| 激光主波長 | 405±5nm | 375±5nm | 405±5nm | 375±5nm | 405±5nm |
| 曝光掃描速度 | 43.9ｍｍ/ｓ | 22.5ｍｍ/ｓ | 10.9ｍｍ/ｓ | 92.2ｍｍ/ｓ | |
| 光學(xué)引擎裝配數(shù)量 | 1 | 7 | |||
※1 因光刻膠和顯影條件而異。
相關(guān)產(chǎn)品
