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產品詳情
簡單介紹：
MA-1400，實驗用曝光裝置，研究用曝光裝置，DNK大日本科研DSLY0505
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詳情介紹：
MA-1400，實驗用曝光裝置，研究用曝光裝置，DNK大日本科研DSLY0505
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MA-1400，實驗用曝光裝置，研究用曝光裝置，DNK大日本科研DSLY0505
簡練設計的手動式整面單次曝光裝置。
特長：
對應玻璃、Wafer、膠片等基材的實驗研究用手動整面單次曝光機。也適合小批量生產。
可選擇接觸曝光(軟接觸、硬接觸)和近接曝光。
對應*大尺寸為500mm×500mm的基板。根據(jù)用途和基板尺寸,配置有*佳組合的光學系統(tǒng)。
其中包括:超高壓水銀燈(500W?1kW?2kW?3.5kW)、各種光學鏡、特殊鏡頭、聚光鏡等。
| MA-1200 | MA-1400 | |||
| 基板尺寸 |
Max 200 x 200mm ?4" ～ ?6" |
Max 400 x 400mm | ||
| 光源 | 超高壓水銀燈 ：500W or 1kW | 超高壓水銀燈 ：2kW or 3.5kW | ||
| 外觀尺寸及重量 | 本體尺寸 | W1240 x D1100 x H1725 mm | W1440 x D1590 x H1882 mm | |
| 本體重量 | 400kg | 400kg(包含無塵機房) | ||
| 光源重量 | － | 250kg | ||
| 選購項 | 無塵機房、背面對位、硬接觸(真空密著式)、自動對位、對應破碎基板等特殊尺寸(需商洽)。 | |||
※基板尺寸和水銀燈瓦數(shù)及特殊規(guī)格可商洽
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