產(chǎn)品目錄
-
工業(yè)器材
- 日本ENDO遠(yuǎn)藤
- 日本azbi山武
- 日本KOSMEK考世美
- 日本BL必愛路
- 日本SGK昭和技研
- 日本JST日壓
- 日本Nidec尼得科
- 日本SANKO三高
- NS日本科學(xué)
- 日本TOKI東機產(chǎn)業(yè)
- 日本ITOH伊藤制作所
- 日本DRY-CABI東利...
- 日本REVOX來寶克斯
- 臺灣CHELIC氣立可
- 日本NPM日脈
- SEN日森
- 日本HORIBA堀場
- 日本NITTO-KOHK
- 日本NBK鍋屋
- 日本NMR
- 日本EYE巖崎
- 日本MUSASHI武藏
- 日本DENSO
- 日本SURE石崎電機制作...
- 日本KURITA栗田
-
日本SAKAGUCHI坂...
- 離心攪拌器
- 遠(yuǎn)紅外線加熱管
- 筒式加熱器
- 泊片加熱器
- 橡膠加專線
- 絕緣臺礙子
- 橡膠加熱器
- 熱風(fēng)機
- 熱風(fēng)槍
- 噴嘴式加熱器
- 加熱板
- 硅膠線加熱器
- 加熱管道
- 包覆式加熱器
- 遠(yuǎn)紅外陶瓷加熱板
- 石英加熱管
- 水加熱器
- 氮化鋁加熱器
- 法蘭加熱器
- 氮化硅加熱器
- 微型陶瓷加熱片
- 加熱圈
- 柔性加熱器
- 空間加熱器
- 電熱爐管道
- 絕緣端子
- 耐熱膠帶
- 導(dǎo)熱泥
- 耐高溫手套
- 高溫發(fā)生器
- 高溫加熱板
- 帕爾貼
- 單端加熱棒
- 包覆式加專線
- 硅海綿
- 耐熱電熱
- 照射式電暖爐
- 高溫模加熱器
- 瓷器加熱器
- 連接器
- 溫度傳感器/熱電偶
- 自動溫度調(diào)節(jié)器
- 溫度控制器
- 恒溫器
- 日本HAKKO八光
- 日本IZUMI 泉精器製...
- 日本IMAO今尾
- 日本JUST
- 日本SUNX神視
- 日本METROL美德龍
- 日本Meiki
- 日本YAMARI山里
- 日本OKAZAKI 岡崎
- 日本TANIGUCHI谷...
- 日本NPM
- 日本EYELA東京理化
- DNK大日本科研
- 日本YOKOHAMA橫濱
- 日本EINS
- 日本ACCRETECH東...
- 環(huán)境設(shè)備
- 測量儀器
- SMT設(shè)備
- 物料運輸
- 切削工具
- 化學(xué)用品
- 作業(yè)工具
產(chǎn)品詳情
簡單介紹：
MA-6131ML，G3～G5基板用，直立型近接曝光裝置，直，DNK大日本科研DSLY0505
MA-6131ML，G3～G5基板用，直立型近接曝光裝置，直，DNK大日本科研DSLY0505
MA-6131ML，G3～G5基板用，直立型近接曝光裝置，直，DNK大日本科研DSLY0505
詳情介紹：
MA-6131ML，G3～G5基板用，直立型近接曝光裝置，直，DNK大日本科研DSLY0505
MA-6131ML，G3～G5基板用，直立型近接曝光裝置，直，DNK大日本科研DSLY0505
MA-6131ML，G3～G5基板用，直立型近接曝光裝置，直，DNK大日本科研DSLY0505
MA-6131ML，G3～G5基板用，直立型近接曝光裝置，直，DNK大日本科研DSLY0505
MA-6131ML，G3～G5基板用，直立型近接曝光裝置，直，DNK大日本科研DSLY0505
MA-6131ML，G3～G5基板用，直立型近接曝光裝置，直，DNK大日本科研DSLY0505
MA-6131ML，G3～G5基板用，直立型近接曝光裝置，直，DNK大日本科研DSLY0505
MA-6131ML，G3～G5基板用，直立型近接曝光裝置，直，DNK大日本科研DSLY0505
MA-6131ML，G3～G5基板用，直立型近接曝光裝置，直，DNK大日本科研DSLY0505
MA-6131ML，G3～G5基板用，直立型近接曝光裝置，直，DNK大日本科研DSLY0505
MA-6131ML，G3～G5基板用，直立型近接曝光裝置，直，DNK大日本科研DSLY0505
通過掩膜與基板的垂直放置,來減少翹曲的直立型近接曝光機。對應(yīng)水平搬送型前后處理裝置的聯(lián)機。
特長：
直立配置掩膜臺/基板臺。不需補正由掩膜/掩膜臺/基板臺的自身重量而造成的彎曲變形,構(gòu)造簡單，安定性高。
采用新型光學(xué)系統(tǒng),使影響圖形轉(zhuǎn)印精度的傾斜角降低至過去的一半以下(與本公司裝置相比),可實現(xiàn)更高精度的圖形轉(zhuǎn)印。
完全分離本體與光源部。光源的熱量傳遞不到本體,改善了本體部的熱量分布水準(zhǔn)。
為了防止因掩膜及玻璃基板的溫度差造成的伸縮變形,可選擇基板臺溫度控制系統(tǒng)及掩膜冷卻系統(tǒng)。(選購項)
*大基板尺寸為1,200mm×1,400mm。通過獨自的光學(xué)系統(tǒng)實現(xiàn)了均勻的一次性曝光。
能夠裝載存放5張掩膜的掩膜存放庫
| MA-6701ML | MA-6801ML | MA-6131ML | |||
| 基板尺寸 | 550 x 650mm | 650 x 750mm | 1100 x 1300mm | ||
| 掩膜尺寸 | 620 x 720 x t8.0mm | 700 x 800 x t8.0mm | 1200 x 1400 x t4.8mm | ||
| 對位 | 非接觸預(yù)對位～自動對位 | ||||
| 間隙 | 擁有傳感性能 | ||||
| 光源 | 超高壓水銀燈 ：8kW | 超高壓水銀燈 ：8kW | 超高壓水銀燈 ：18kW | ||
| 外觀尺寸及重量 | 本體尺寸 | W3500 x D2720 x H2700 mm | W4150 x D3200 x H2900 mm | W11300 x D7060 x H3350 mm | |
| 本體重量 | 3500kg | 3800kg | 12700kg | ||
| 光源重量 | 800kg | 1150kg | 4200kg | ||
| 選購項 | 掩膜冷卻、基板臺溫度調(diào)節(jié)、溫控機房、特殊對位照明 | ||||
| 用途 | 觸摸屏、彩色濾光片、有機EL、C－STN、電子紙等 | ||||
※基板尺寸和水銀燈瓦數(shù)及特殊規(guī)格可商洽
相關(guān)產(chǎn)品
