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產(chǎn)品名稱(chēng)：MUM系列，MEMS用曝光裝置，日本曝光裝置，DNK大日本科研DSLY0505
產(chǎn)品型號(hào)：MUM系列
產(chǎn)品廠商：日本DNK大日本科研
產(chǎn)品價(jià)格：0
折扣價(jià)格：0
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簡(jiǎn)單介紹：

MUM系列，MEMS用曝光裝置，日本曝光裝置，DNK大日本科研DSLY0505 MUM系列，MEMS用曝光裝置，日本曝光裝置，DNK大日本科研DSLY0505 MUM系列，MEMS用曝光裝置，日本曝光裝置，DNK大日本科研DSLY0505

詳情介紹：

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在曝光過(guò)程中，通過(guò)移動(dòng)掩膜來(lái)控制光刻膠表面的曝光能量分布。能夠制作有任意曲面及傾斜的三維微細(xì)構(gòu)造體。

特點(diǎn)：

采用獨(dú)自的鏡面?鏡頭光學(xué)系統(tǒng),實(shí)現(xiàn)**均勻的照射。
配備有可設(shè)定非接觸?面內(nèi)均一間隙的間隙傳感器和對(duì)應(yīng)多層曝光的顯微鏡、X?Y?θ軸對(duì)位臺(tái)的對(duì)位系統(tǒng)。
采用Moving UV mask法(使用Piezo Positioning Stage,使掩膜在曝光中微細(xì)移動(dòng))能夠控制厚膜光刻膠的側(cè)壁傾斜角度,形成三維微細(xì)構(gòu)造體。

		MUM系列
掩膜尺寸		Max 9" x 9" x t3.0 mm
基板尺寸		Max Φ8"(Wafer)
光源		超高壓水銀燈：500W or 1kW
外觀尺寸及重量	本體尺寸	W2120 x D1305 x H1850 mm
	本體重量	640kg